高溫抗氧化性：高溫氧化氣氛下，元件的表面生成一層致密的石英（SiO2）保護層以防止Mosi2 繼續氧化。當元件溫度大于1700°C，熔點為1710°C的SiO2保護層熔融，由于表面的張力的作用，SiO2融聚成滴，而失去保護作用。元件在氧化氣氛下，再繼續使用時，SiO2保護層重新生成。

必須指出的是，元件不宜在400-700°C范圍內長時間使用。否則元件會因低溫的強烈氧化作用而粉化。